Yeo Jung-Min合伙人、韩国专利代理师
- 教育背景
- 延世大学电气电子工程专业；首尔大学研究生院机械航空工程专业
- 专业资格
- 通过第53届韩国专利代理师考试
- 工作经历
- Pine IP Firm 专利代理师（2025年至今）
- Lee & Mock（2018–2025）
- Gasan 专利事务所（2017–2018）
- LIG Nex1（2013–2014）
- 主要业务与活动
- 代理三星电子、三星未来技术育成财团、KT&G及韩国国防科学研究所的相关业务
半导体与显示技术即使内容相同，采用装置或方法权利要求也会影响保护范围和侵权举证。工艺条件往往难以从工厂外部查明，因此应先区分适合申请专利的内容与适合保密的内容。
主要业务
- 工艺与制造设备: 沉积、刻蚀、清洗设备及搬运、对准结构
- 检测与测试: 测试插座、探针及检测方法
- 器件与封装: 器件结构、封装、基板及布线
- 显示技术: 面板结构、驱动电路及补偿方法
负责专利代理师
Kang Min-ho代表韩国专利代理师
- 教育背景
- 成均馆大学电子电气工程专业
- 专业资格
- 通过第53届韩国专利代理师考试
- 工作经历
- Pine IP Firm 代表专利代理师（2022年至今）
- Jiwon 专利事务所电子组专利代理师（2020–2022）
- Lee & Mock 电子组专利代理师（2018–2020）
- Wooin 专利事务所专利代理师（2017–2018）
- 主要业务与活动
- 电子、AI、软件、UI/UX、区块链与IoT领域的专利申请及审查意见答复
- 竞争对手专利分析、FTO及规避设计评估
代表性经验
三星电子SAIT优秀代理人
专业认可
Yeo Jung-Min专利代理师于2020年及2024年获选三星电子SAIT优秀代理人。
竞争对手专利检索与FTO分析
侵权风险评估
通过专利检索与权利要求对照表，评估产品侵权风险及规避设计方案。
光学镜头模组研发的IP-R&D战略
IP-R&D
在韩国专利战略开发院IP-R&D战略支持项目中，参与光学塑料树脂镜头模组研发课题。
韩国申请流程与时间
从申请到授权
- 咨询与发明资料审阅根据技术交底、附图及实验数据，确定拟保护的内容。
- 现有技术检索与申请文件撰写通常为2周至1个月检索韩国及海外专利文献，评估可专利性并撰写说明书和权利要求。
- 提交申请与请求审查可在申请时提出审查请求，或在申请日起3年内提出在韩国提交申请并请求审查；符合条件时一并申请优先审查。
- 实质审查与审查意见答复2025年首次审查结果平均时间：普通审查14.7个月，优先审查2.1个月收到审查意见后，在通知指定的期限内提交意见陈述和修改文件。韩国国内申请人通常为2个月，符合条件时可申请延期。
- 授权登记收到授权决定副本后3个月内缴纳登记费缴纳登记费并办理登记后，专利权正式生效。
常见问题
可通过拆解或分析产品确认的结构，通常更适合考虑专利保护。温度、压力、时间等工艺条件若难以查明竞争对手是否使用，则可能更适合保密。设备结构与工艺配方可以分别管理。
说明书有充分支持时，两类权利要求各有作用。装置权利要求可针对设备制造商、销售商，方法权利要求可针对实际实施工艺的一方。应结合潜在侵权主体选择保护方式。
半导体及显示技术曾被列入韩国先进技术优先审查公告。2025年优先审查到首次审查结果平均为2.1个月，普通审查为14.7个月。具体资格及申请期间以当时有效公告为准。
若客户及竞争对手分布于多个国家，建议一并考虑海外布局。主张韩国申请优先权通常有12个月期限，因此起草首次说明书时，应兼顾目标国家的审查要求。
